晶圆检测设备校准专用PSL标准球

PSL 小球是半导体行业关键计量工具,其主要成分为单分散聚苯乙烯微球,我司可提供特定尺寸PSL粒度标准品微球,专门用来校准和维护扫描表面检测系统(SSIS)。 在半导体工业中,SSIS扫描表面检测系统是一种关键设备,主要用于检测晶圆(Wafer)表面的缺陷如晶圆表面的颗粒、划痕、残留物、晶体缺陷等。SSIS系统在半导体制造过程中至关重要,因为即使是微小的表面缺陷也可能对芯片的性能和良率产生重大影响。

上海伊普瑞生物科技有限公司可提供PSL标准球粒径覆盖 50nm 至 100μm,通过TEM,SEM以及激光粒度仪等检测方法确保尺寸精确。经实际测试,我司该产品粒径精确度可媲美进口产品Surf-Cal 标准粒子质量。

产品优势

1. 粒径发布窄
单分散性能优异,粒径分布变异系数CV≤3%

2. 稳定性与适配性
水性悬浮液封装,含痕量SDS表面活性剂防止团聚。

3. 多功能应用
同时满足SSIS晶圆检测设备校准、掩模板缺陷标记分析、污染物模拟及工艺验证等多场景需求。

4. 免费供样
可提供免费样品供客户验证比对

产品应用

一、晶圆检测设备校准应用
1. 扫描表面检测系统(SSIS) 校准和维护

  • 扫描电子显微镜(SEM)与原子力显微镜(AFM)校准:
  • 验证 SEM 对纳米级特征(如线条宽度、通孔直径)的测量精度。
  • 校准 AFM 三维形貌扫描的垂直分辨率(如 CMP 工艺后的表面粗糙度)。

2.光学颗粒计数器校准
模拟 0.05μm~100μm 污染物,校准激光散射设备的粒径识别阈值与计数效率。

二、污染物检测方法优化

灵敏度评估:
沉积已知浓度 PSL(如 1000 个 /cm²),通过暗场检测或 SEM 分析,验证设备对 0.2μm 颗粒的检出率。

清洗工艺验证:
对比清洗前后 PSL 残留率,量化评估兆声波、毛刷清洗等工艺的有效性。

缺陷定位与标记:
选择性吸附于划痕、凹坑等缺陷处,通过荧光显微镜快速定位,支持工艺优化。

三.掩模板检测应用

1. 缺陷模拟与检测开发
EUV 掩模板检测:
100nm PSL 模拟多层膜相位缺陷,优化暗场检测系统的分辨率与数值孔径(NA)。

算法验证:
构建 PSL 缺陷库(不同形状、位置)训练机器学习模型,提升缺陷分类准确率。

2. 清洁效果评估
等离子体 / 毛刷清洁验证:
通过 AFM/SEM 观察残留 PSL 分布,评估清洁工艺对亚 100nm 颗粒的去除效率(行业标准≤1 个 /cm²)。

产品理化参数

物理参数详情
成分聚苯乙烯乳胶微球/PSL 小球
粒径范围0.05um 至 160um
密度1.05g/cm³
折射率1.59(589nm,25℃)
储存条件2-8℃避光保存
有效期≤24 个月
包装10ml 或 100ml 滴头瓶,含微量表面活性剂

产品目录

货号粒径产品成分W/VCV
EPRUI-N-PS5050nm聚苯乙烯1%<8%
EPRUI-N-PS6060nm聚苯乙烯1%<5%
EPRUI-N-PS7070nm聚苯乙烯1%<5%
EPRUI-N-PS8080nm聚苯乙烯1%<5%
EPRUI-N-PS9090nm聚苯乙烯1%<5%
EPRUI-N-PS100100nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-N-PS200200nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-N-PS300300nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-N-PS400400nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-N-PS500500nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-N-PS600600nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-N-PS700700nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-N-PS800800nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-N-PS900900nm聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS0011um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS0022um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS0033um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS0055um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS01010um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS01515um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS02020um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS03030um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS04040um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS05050um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS06060um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS07070um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS08080um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS09090um聚苯乙烯5%<3%
EPRUI-M-PS100100um聚苯乙烯5%<3%

如需要其他特殊粒径,可联系我们进行定制!

产品使用注意事项

1. 分散处理:使用前轻柔摇匀,避免剧烈震荡导致团聚。
2. 浓度控制:稀释至 1% 固体浓度,防止颗粒过密干扰检测。
3. 环境要求:操作需在 ISO 4 级以上洁净室中进行,避免外来污染。

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